Intel Foundry ha raggiunto un traguardo significativo nella produzione di chip, completando l’assemblaggio del primo scanner litografico High Numerical Aperture (High NA) Extreme Ultraviolet (EUV) commerciale presso il proprio sito di ricerca e sviluppo di Hillsboro, Oregon. Questo è uno degli investimenti di Intel per mantenere la leadership nella produzione di chip dopo il nodo Intel 18A. Intel è la prima azienda del settore ad adottare l’High NA EUV Il tool TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV…
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ASML ha annunciato di aver compiuto un passo significativo nell'ambito della litografia ultravioletta estrema (EUV), con il suo primo strumento High-NA che ha stampato con successo i suoi primi modelli. Questo traguardo rappresenta una tappa fondamentale non solo per ASML, ma anche per la tecnologia di litografia EUV ad altissima apertura numerica High-NA. Il nostro sistema EUV High-NA a Veldhoven ha realizzato le prime linee dense di 10 nanometri mai stampate in precedenza, ha…
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